詳細摘要： 德Alpha Plasma 微波等離子去膠機，去膠快速*，無化學殘留物，無需干燥處理，對樣品無損傷，操作簡單安全。

詳細摘要： 德國 PVA TePla 等離子清洗機PlasmaPen 常壓等離子, 通過清潔和活化材料表面來改善灌封化合物、粘合劑、油墨、涂料和染料等的浸潤性,Plasma...

詳細摘要： 德國 PVA TePla 等離子清洗機IoN 40, 靈活的電極設(shè)計保證了工藝的均勻性, 觸摸屏操作，圖形用戶界面（GUI）

詳細摘要： 德國 PVA TePla 等離子清洗機 IoN 100 WB , 是推出的具有高性價比的真空等離子清洗設(shè)備,可以迅速快捷的更換不同類型的電極結(jié)構(gòu)。

詳細摘要： IoN Wave 10E 德國 PVA TePla 等離子去膠機, 使用的、性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進行精確控制。

詳細摘要： 德國 PVA TePla 等離子去膠機 IoN 100WB-40Q， 配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導體、LED、MEMS等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物...

詳細摘要： 美國 Harrick PDC-32G-2 基本型等離子清洗機，該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導體、陶瓷、復合材料、高分子聚合物等材料，并對所...

詳細摘要： 美國 Harrick PDC-002 擴展型等離子清洗機，該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導體、陶瓷、復合材料、高分子聚合物等材料，并對所處理...

詳細摘要： 美國 Harrich PDC-MG 高集成度等離子清洗機，是一款超清洗設(shè)備, 采用氣體作為清洗介質(zhì)，在短時間內(nèi)能**地清除被清洗物表面的有機污染物，其清洗能力達...

詳細摘要： Diener Bell Jar 35 研究型等離子清洗機，是一種研究設(shè)備，其專為科學試驗所研發(fā)。該設(shè)備即適用于熱蒸發(fā)，濺射 ，電子束蒸發(fā)，SEM（掃描電子顯微鏡...